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WO2025117715 - ELECTROSTATIC CHUCK WITH CONTROLLABLE TEMPERATURE, ION IMPLANTATION SYSTEM USING THE SAME AS WELL AS METHOD OF CONTROLLING THE TEMPERATURE IN SAID ELECTROSTATIC CHUCK

National phase entry is expected:
Publication Number WO/2025/117715
Publication Date 05.06.2025
International Application No. PCT/US2024/057711
International Filing Date 27.11.2024
Title [English] ELECTROSTATIC CHUCK WITH CONTROLLABLE TEMPERATURE, ION IMPLANTATION SYSTEM USING THE SAME AS WELL AS METHOD OF CONTROLLING THE TEMPERATURE IN SAID ELECTROSTATIC CHUCK [French] MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE À TEMPÉRATURE RÉGLABLE, SYSTÈME D'IMPLANTATION IONIQUE L'UTILISANT ET PROCÉDÉ DE RÉGULATION DE LA TEMPÉRATURE DANS LEDIT MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE
Applicants ** AXCELIS TECHNOLOGIES, INC. 108 Cherry Hill Drive Beverly, Massachusetts 01915, US
Inventors ** BAGGETT, John 7 Lakeshore Drive Amesbury, Massachusetts 01913, US
Priority Data 63/604,353  30.11.2023  US
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Application details
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Quotation for National Phase entry

Country Stages Total
China Filing 1526
EPO Filing, Examination 9957
Japan Filing 554
South Korea Filing 578
USA Filing, Examination 4835
+ Add country
MasterCard Visa
Total: 17450
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Abstract [English] A clamping system has a workpiece clamp (102) having a platen (108) to support a workpiece (106) and heating elements (118) for heating the platen (108) to a platen temperature. A cooling plate (122) has cooling features to cool to the cooling plate. A vacuum chamber (128) defines a chamber volume between the platen (108) and the cooling plate (122). One or more radiation shields (140) within the chamber volume (128) can limit a radiative heat transfer between the platen (108) and the cooling plate (122). A vacuum source (134) and a gas source (142) are selectively fluidly coupled to the chamber volume. A controller (156) controls the platen (108) temperature in both a high and a low temperature regime by controlling a pressure within the vacuum chamber (128) through the vacuum source (134) and gas source (142) to control a heat transfer between the platen (108) and the cooling plate (122). [French] Un système de serrage comprend une pince de pièce (102) avec un plateau (108) pour supporter une pièce (106) et des éléments chauffants (118) pour chauffer le plateau (108) à une température de plateau. Une plaque de refroidissement (122) comprend des éléments de refroidissement pour refroidir la plaque de refroidissement. Une chambre à vide (128) définit un volume de chambre entre le plateau (108) et la plaque de refroidissement (122). Un ou plusieurs écrans de protection contre le rayonnement (140) à l'intérieur du volume de chambre (128) peuvent limiter un transfert de chaleur par rayonnement entre le plateau (108) et la plaque de refroidissement (122). Une source de vide (134) et une source de gaz (142) sont sélectivement couplées de manière fluidique au volume de chambre. Un dispositif de commande (156) commande la température du plateau (108) à la fois dans un régime à haute et basse température par commande d'une pression à l'intérieur de la chambre à vide (128) à travers la source de vide (134) et la source de gaz (142) pour commander un transfert de chaleur entre le plateau (108) et la plaque de refroidissement (122).